公告摘要：
磁控濺射鍍膜機(jī)變更公告
一、項(xiàng)目名稱：磁控濺射鍍膜機(jī) 二、項(xiàng)目編號：CLF25SX04QY81/01 三、變更內(nèi)容： 1、招標(biāo)文件中投標(biāo)文件遞交的截止時(shí)間和開標(biāo)時(shí)間，原為“2025年12月25日09:30（北京時(shí)間）”，現(xiàn)變更為：“2026年1月28日09：30（北京時(shí)間）”； 2、招標(biāo)文件中投標(biāo)保證......
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公告摘要：
磁控濺射鍍膜機(jī)變更公告
一、項(xiàng)目名稱：磁控濺射鍍膜機(jī) 二、項(xiàng)目編號：CLF25SX04QY81/01 三、變更內(nèi)容： 1、招標(biāo)文件中投標(biāo)文件遞交的截止時(shí)間和開標(biāo)時(shí)間，原為“2025年12月25日09:30（北京時(shí)間）”，現(xiàn)變更為：“2026年1月28日09：30（北京時(shí)間）”； 2、招標(biāo)文件中投標(biāo)保證......
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